La gravure en 10 nm est née dans la douleur chez Intel, causant une pénurie persistante sur le noeud supérieur en 14 nm, trop sollicité, mais elle commence à prendre forme avec les premiers processeurs Ice Lake de la famille Intel Core de 10ème génération.
Déjà, le groupe prépare le passage à la gravure en 7 nm d'ici 2021, cette évolution ayant été préparée en parallèle du passage au 10 nm. Et ensuite ? Une roadmap en provenance du fabricant d'équipements de lithographie ASML détaille la volonté du groupe de Santa Clara de retourner à un cycle évolutif permettant d'améliorer la finesse tous les deux ans.
Selon ce scénario, le passage à la gravure en 5 nm serait prévu en 2023, puis le 3 nm en 2025, avant de descendre encore au 2 nm en 2027 puis à la gravure en 1,4 nm d'ici 2029 !
Selon cette même roadmap, la gravure en 10 nm connaîtra deux évolutions : 10 nm++ et 10 nm+++, la première servant de support pour le passage au 7 nm. Chaque noeud de gravure aura ensuite deux niveaux de progression.
Si la gravure en 7 nm continuera d'utiliser la lithographie EUV, le passage au 5 nm et aux noeuds plus bas fera appel à de nouvelles techniques, précise le document. Il reste à voir si Intel pourra tenir une telle cadence mais le groupe affirme ici son ambition de ne pas abandonner encore la loi de Moore, malgré les difficultés rencontrées pour basculer du 14 nm au 10 nm.
