Le géant de Santa Clara a commencé à montrer ces derniers mois les premiers wafers gravés en 10 nm et préparant les processeurs Cannon Lake, mais de la démonstration à l'exécution, il reste encore plusieurs mois de délai.
La gravure en 10 nm d'Intel prend plus de temps que prévu à émerger. Au départ prévue pour fin 2017, elle a depuis été reportée à fin 2018. En marge de la présentation des résultats financiers pour le premier trimestre 2018, son CEO Brian Krzanich a confirmé une disponibilité de la gravure en 10 nm pour la fin de l'année...mais en quantités limitées.
Ce ne sera donc qu'en 2019 que les processeurs Cannon Lake seront plus largement proposés, repoussant encore la disponibilité de la technologie. Pendant ce temps, TSMC et Samsung auront lancé leur technologie de gravure en 7 nm et s'achemineront déjà vers des noeuds plus bas.
Intel a beau expliquer que sa gravure en 10 nm sera plus efficiente que ce que propose la concurrence, le fossé tend à s'élargir.
