Les appareils électroniques évoluent à un rythme très rapide et gagnent régulièrement en puissance mais, à l'intérieur, les puces et composants qui les animent évoluent eux aussi très vite et nécessitent des techniques de production toujours plus pointues pour permettre toujours plus de performances dans toujours moins d'espace.
Nombre de processeurs équipant ces appareils sont gravés en 32 ou 28 nm, tandis qu'arrivent les générations en 20 et 14 nm, et que la descente vers le noeud 10 nm est dans les roadmaps. Cette course à la miniaturisation se trouve barrée par des obstacles grandissants et aux limites physiques des principes qu'elles utilisent alors que la demande pour des composants toujours plus petits et performants (aussi pour des microcontrôleurs ou des capteurs) est en train d'exploser.
Pour trouver de nouvelles solutions et alternatives, ces technologies de production nécessitent d'énormes investissements que les entreprises privées ne peuvent pas couvrir seules, tandis que les instituts de recherche publics n'ont pas les moyens de mettre en application les fruits de leurs travaux.
Après Nano2012 annoncé en 2009, le programme Nano2017 vient d'être officialisé et propose une collaboration massive entre secteur public et privé sur les cinq années à venir pour faire progresser l'industrie des semiconducteurs.
Nano2017 sera financé à hauteur de 3,5 milliards d'euros, dont 600 millions d'euros apportés par l'Etat français tandis que ST préparera le doublement de la production de son site de Crolles. Il s'intègre également dans un cadre européen Horizon 2020 voulu par la Commission européenne pour implanter durablement une activité européenne dans la micro-nano-électronique.
Parmi les domaines de recherche, on trouvera des thématiques comme le FD-SOI (dont le spécialiste est le groupe français Soitec), les capteurs et processeurs d'images de nouvelle génération ou les mémoires embarquées non volatiles.
