Alors que des acteurs comme Samsung ou TSMC se préparent à lancer leur technologie de gravure en 7 nm, le groupe Intel reste sur du 14 nm et reporte de trimestre en trimestre son passage au 10 nm.
Tout en pouvant commencer à proposer des solutions en 10 nm dès cette année, le démarrage de la production de masse n'est plus attendu avant 2019 et cette fenêtre même est restée flou.
Elle vient de gagner en précision et fixe la disponibilité des processeurs gravés en 10 nm au second semestre de 2019, et sans doute pas avant les fêtes de fin d'année, ce qui sous-entend un démarrage effectif de production sur le deuxième ou le troisième trimestre l'an prochain.
L'une des conséquences directes est que l'actuelle gravure en 14 nm (dans ses diverses variantes) est là pour durer encore un moment et sera toujours bien présente en 2019.
Intel souligne toujours que sa gravure en 10 nm sera plus efficiente et dense que les technologies de gravure en 7 nm de la concurrence mais le recours progressif de cette dernière à la lithographie EUV (Extreme Ultra Violet) pourrait finir par réduire les avantages promis d'une gravure en 10 nm qui se fait décidément désirer.
